Proceso de obtención de Material de Óxido de Zinc (ZnO) en laboratorio por Pulverización Catódica.
Palabras clave:
Pulverización, Óxidos, Metales, Zinc, SemiconductorResumen
El siguiente trabajo muestra los resultados de experimentos relacionados con la obtención de óxidos metálicos como las nanopartículas de zinc (Zn). Entre las técnicas usadas para obtener estas nanopartículas están: plasma spray, thermal spray y la pulverización catódica. Esta última técnica, tiene especial interés, una de ellas es la notable adherencia al substrato, control composicional y pureza. Además, es una técnica ambientalmente amigable y sobre todo reproducible, permitiendo sintetizar y caracterizar una amplia gama de metales. Una de las desventajas es el costo tanto del equipo como de los blancos para los depósitos de las películas. Los recubrimientos se depositaron usando un blanco de zinc (Zn) con un 99.99% de pureza sobre substratos de vidrio, alúmina y cuarzo, con ayuda del equipo Agar Auto Sputter Coater (Sputtering), así mismo se trataron térmicamente las muestras de depósito de zinc (Zn) metálico con la intención de obtener óxido de zinc (ZnO) y ser utilizado como una propuesta de material semiconductor tipo n basado en óxidos metálicos, el cual fue formado a través de la técnica de oxidación térmica en un horno tubular de alta temperatura a 500°C, con flujo de aire a 600sccm para formar un ambiente oxidante y en consecuencia formar capas continuas de material Óxido de Zinc (ZnO) y ser analizadas estructuralmente con Difracción de rayos X, y eléctricamente colocando contactos metálicos a las muestras para medir sus curvas de Corriente Voltaje.